天涯海角社区

　　匀胶机的匀胶转速是匀胶过程中最重要的因素。基片的转速不仅影响到作用于光刻胶的离心力，而且还关系到紧挨着基片表面空气的*湍动和基片与空气的相对运动速度。光刻胶的最终膜厚通常都由匀胶转速所决定。尤其在高速旋转这个阶段。膜厚在很大程度上是作用于液体光刻胶上﹑方向朝基片边缘的剪刀力与影响光刻胶粘度的干燥速率之间平衡的结果。随着光刻胶中溶剂不断挥发，粘度越来越大，直到基片旋转作用于光刻胶的离心力不再能使光刻胶在基片表面移动。到这个点上，胶膜厚度不会随匀胶时间延长而变薄。
 

　　匀胶机匀胶过程中基片的加速度也会对胶膜的性能产生影响。因为在基片旋转的第一阶段，光刻胶就开始干燥了。所以精确控制加速度很重要。在一些匀胶过程中，光刻胶中的溶剂就在匀胶过程开始的几秒钟内挥发掉了。在已经光刻有图形的基片上匀胶，加速度对胶膜质量同样起重要作用。在许多情况下，基片上已经由前面工序留下来的精细图形。因此，在这样的基片上穿越这些图形均匀涂胶是重要的。匀胶过程总是对光刻胶产生离心力，而恰恰是加速度对光刻胶产生扭力，这个扭力使光刻胶在已有图形的周围散开，这样就可能以另一种方式用光刻胶覆盖基片上有图形的部分。
 

　　匀胶机所有匀胶过程中光刻胶的干燥速度不仅取决于光刻胶的自身性质(如所用溶剂体系的挥发性)，而且还取决于匀胶过程中基片周围的空气状况。一块湿布在干燥有风的日子干得快，而在潮湿气候条件下干得慢。光刻胶的干燥速度与此相似，也受周围环境条件的影响。大家都知道，像空气温度、湿度这样的因素对决定胶膜性质有重要的作用。匀胶的时候，减小基片上面的空气的流动，以及因空气流动引起的湍流，或者至少保持稳定也是十分重要的。