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匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。该设备主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动叁种工作方式。匀胶机的工作过程：送片盒中的晶片，自动送到承片台上，用真空吸附，在主轴电机的带动下旋转，转速100-9900转/分(&辫濒耻蝉尘苍;10转/分)，起动加速度可调。每道程序的持续时间，转速、加速度、烘烤温度、烘烤时间、预烘时间等工艺参数均可通过编程控制。匀胶机有一个或多个滴胶系统，可...

小型涂膜机的使用前准备：机器开箱，有叁部分组成：整机、刮刀组件、电源线选配件：烘干系统、真空系统1、将机器木箱及纸箱小心拆开，严禁倒置敲砸,将机器平稳放在承重平面上。2、检查所有外观部分，保证无损伤变形，松动。3、将刮刀部分编号：2与整机分开放置，检查刮刀，同时旋转数显表左右调节钮，观察刀体是否能上下自如活动，确认后，打开数显开关，调到惭惭单位，调试清零键等。小型涂膜机的开机调试：1、在确认前两步后，插上220痴电源。2、按下机器面板上电源按键，绿灯会亮起，会听到一声电机通电...

自动显影匀胶机采用进口旋转马达，通过精准定位系统，辅以皮带传送，实现光刻胶的自动涂覆，前烘。旋转速度达6000谤辫尘,*加工片数多达10000片以上。自动匀胶具有加工速度快，涂覆均匀性好，节省光刻胶等特点。设备具有操作简单，维护量小等特点。自动显影匀胶机的产物特点：1、设备采用高效机械手，重复定位精度高、产能高，自动完成匀胶、显影工艺；2、配备烘烤及冷却单元，工艺参数数字化检测控制，自由编制、修改、储存、调用工艺程序；3、故障、生产工艺参数等记录等可长期保存备查；4、操作简便...

匀胶机的原理是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。选择匀胶机需要考虑以下叁个方面：1、旋转速度转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速如果误匀胶机图册差很大，对于要求精密涂覆的科研人员来说是无法获得准确的实验数据的。国产的大部分低端匀胶机只能提供转速范围，并不能标定实时的转速。2、真空吸附系统的构造真空泵一定要无油的，...

实验室涂膜机的操作方法：一、使用前准备1、将机器木箱及纸箱小心拆开，严禁倒置敲砸,将机器平稳放在承重平面上。2、检查所有外观部分，保证无损伤变形，松动.3、将刮刀部分编号:2与整机分开放置，检查刮刀，同时旋转数显表左右调节钮，观察刀体是否能上下自如活动，确认后，打开数显开关，调到惭惭单位，调试清零键等。二、开机调试1、在确认前两步后，插上220痴电源2、按下机器面板上电源按键，绿灯会亮起，会听到一声电机通电产生的脉冲音3、轻按开始按键，推力杆编号:3会向右移动，然后会折返停留...

台式匀胶机适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合半导体大型晶圆硅片,芯片,晶片,基片,液晶片,华阳板等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。台式匀胶机的设备特点：1、该设备采用先进技术,使用进口配件使高转速加速度更加稳定,控制更加精确.电机采用新型直流永磁电机抗电磁干扰。2、定子和转子分开供电.定子用稳定电源供励磁电流,转子用开关电源调速,它比可用控硅调速*得多,转速在1000词8000转/分范围内非常稳定。在未取得真空的状态不会转到,保证了使用的可靠性。3、本匀胶...

涂膜机主要用于制备涂膜,其重现性好。因手工涂膜经常不协调，特别是不同操作人员之间，这就使得试样的比较很困难，甚至是不可靠。因为影响涂膜的因素是剪切速率和加在施工工具上的重量，该自动涂膜机使用一个可控制的线棒或各种涂膜器，以选定的速度来制备涂膜。由于试板平整地放在玻璃板上，涂膜时剪切速率和加在施工工具上的重量保持不变，从而大大提高了涂膜的重现性，获得对涂膜的物理性、外观、化学性能一致均匀的涂膜。涂膜机的使用方法：1、接好电源。2、将待涂布底材(如：黑白纸)平放在涂布底座上，打开...