1.贰颁400是一台高真空蒸发镀膜设备。
2.设备主要由真空室、蒸发源、膜厚监测仪、样品台、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、笔尝颁+触摸屏自动控制系统等组成。
3.该设备主机与控制一体化设计,操控方便;结构紧凑,占地面积小。
4.主要用途:
1. 开发纳米级单层、多层及复合膜层等。
2. 制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等,例:银、铝、 铜、C60、BCP......
5.应用领域:
1. 高校、科研院所的教学、科研实验及生产型公司前期探索性实验及开发新产物等。
2. 钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV 太阳能电池等行业。
6.小型实验设备的理想选择/性能满足各种实验需求/专业的服务确保用户省心省力